【應材突破性流動式化學氣相沉積技術 推動先進微晶片...
<P align=center><STRONG><FONT size=5>【<FONT color=red>應材突破性流動式化學氣相沉積技術 推動先進微晶片設計</FONT>】</FONT></STRONG></P><P> </P>
<P><STRONG><SPAN>更新日期:<Q><SPAN class=t_tag href="tag.php?name=2010">2010</SPAN>/08/25 17:26</Q></SPAN> 記者房書勤‧陳心雅／新竹報導 </STRONG></P>
<P><STRONG></STRONG> </P>
<P><STRONG>應用材料公司25日宣佈，新推出具突破性的Applied Producer® Eterna™流動式化學氣相沉積系統(Flowable CVD)，能運用電流隔絕記憶體及邏輯晶片設計中20奈米及以下製程的淺溝電晶體，具高品質的電介質薄膜，是首樁也是唯一可處理薄膜沉積的技術。</STRONG></P>
<P><STRONG></STRONG> </P>
<P><STRONG>電晶體與電晶體間的淺溝層皆可完成 30:1 縱橫比的填洞，較目前技術需求高出五倍，而且具高複雜的縱橫比。</STRONG></P>
<P><STRONG></STRONG> </P>
<P><STRONG>Eterna流動式化學氣相沉積系統獨特的能力，可以將淺溝層自下到上完全填洞完畢，並產出緊密、無碳的介電質薄膜，比液態旋轉式薄膜(spin-on)沉積方式的成本便宜一半，液態旋轉式薄膜沉積需更多的設備及更多道的製程手續方能完成。</STRONG></P>
<P><BR><STRONG>應用材料公司副總裁暨DSM/ CMP產品處總經理比爾‧麥可林塔(Bill McClintock)表示，由於先進晶片設計中，需要填出更小更深的溝層，成為目前沉積技術無法突破的物理性障礙。</STRONG></P>
<P><STRONG></STRONG> </P>
<P><STRONG>今日應用材料公司已有傑出的技術突破，我們推出新的Eterna流動式化學氣相沉積系統，能形成破壞性創新，讓製程技術能遵循摩爾定律持續進步。</STRONG></P>
<P><STRONG></STRONG> </P>
<P><STRONG>擁有這套Eterna 流動式化學氣相沉積系統，應用材料公司可望持續維持長達十年的填洞技術領導地位，為客戶提供獨特、簡化、具成本效益的解決方案，以克服多種新世代晶片技術所面臨的挑戰。</STRONG></P>
<P><BR><STRONG>應用材料公司具專利的Eterna流動式化學氣相沉積製程，能沉積出如液體般的薄膜，可自由流動於任何結構中，形成自下到上的無空隙填充效果。</STRONG></P>
<P><STRONG></STRONG> </P>
<P><STRONG>Eterna流動式化學氣相沉積系統可整合至應用材料公司的Producer平台，目前已裝在六處DRAM、快閃記憶體及邏輯應用客戶端的機台上。</STRONG></P>
<P> </P>
<P><STRONG>引用：</STRONG><A href="http://tw.news.yahoo.com/article/url/d/a/100825/17/2bs0v.html"><FONT color=#0066cc><STRONG><SPAN class=t_tag href="tag.php?name=http">http</SPAN>://tw.news.yahoo.com/<SPAN class=t_tag href="tag.php?name=article">article</SPAN>/url/d/a/<SPAN class=t_tag href="tag.php?name=100">100</SPAN>825/17/2bs0v.html</STRONG></FONT></A></P>
頁:
[1]